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催化燃燒設(shè)備

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電子廠的廢氣處理設(shè)備的選擇

來源:未知 發(fā)布日期:2022-08-05 17:27關(guān)注次數(shù):
 電子廠的廢氣處理設(shè)備的選擇 
    電子廠的污染物對(duì)空氣的環(huán)境非常嚴(yán)重,會(huì)直接影響到人們的身體健康,那么電子廠的廢氣處理設(shè)備有哪些呢?廢氣處理方法又有哪些?廢氣處理設(shè)備廠家來介紹一下:
 
  1、焚燒法(RTO):能耗***、運(yùn)行成本高,適合處理高濃度、小風(fēng)量有機(jī)廢氣;
 
  2、吸附法(活性炭):投資小、工藝簡單,易飽和,需要與脫附、冷凝、焚燒等方法聯(lián)用才能滿足排放要求;
 
  3、冷凝法:與吸收、吸附等方法聯(lián)用,將有機(jī)廢氣吸附濃縮后冷凝、分離,回收其中有價(jià)值的有機(jī)物。此法適用濃度高、風(fēng)量小的有機(jī)廢氣處理場合。缺點(diǎn)是:投資、能耗、運(yùn)行費(fèi)用高,冷凝回收物提純處理后,仍有相當(dāng)部分液態(tài)廢棄物需要進(jìn)一步處理。該方案與生產(chǎn)設(shè)備、生產(chǎn)工藝存在匹配關(guān)系,偏離這種匹配關(guān)系將提高治理成本,影響治理效果;
 
  4、沸石轉(zhuǎn)輪濃縮+焚燒法:沸石轉(zhuǎn)輪濃縮設(shè)備基本依靠進(jìn)口,自主產(chǎn)品尚不成熟。該方案同樣與生產(chǎn)設(shè)備、生產(chǎn)工藝存在匹配關(guān)系;
 
  5、光催化氧化法:采用C波段(僅次于切割不銹鋼的激光,強(qiáng)于氬弧焊光源的數(shù)十倍強(qiáng)度)在設(shè)備內(nèi),強(qiáng)裂解惡臭物質(zhì)分子鏈,改變物質(zhì)結(jié)構(gòu),將高分子污染物質(zhì),裂解、氧化成為低分子無害物質(zhì),如水和二氧化碳等;
 
  6、高溫等離子凈化法:經(jīng)過壓縮、高壓聚能放電成為高溫等離子體。反應(yīng)器壓力增高,氣體體積急劇膨脹,在高溫、高電勢(shì)的雙重作用下,有機(jī)廢氣瞬間(萬分之5秒)成為高溫等離子體,其中長分子鏈裂解成單質(zhì)原子,有機(jī)物凈化率在90%左右。